Fabrication à l'échelle atomique : Dépôt sélectif localisé (ASD) de TiN H/F

Détail de l'offre

Informations générales

Entité de rattachement

Le CEA est un acteur majeur de la recherche, au service des citoyens, de l'économie et de l'Etat.

Il apporte des solutions concrètes à leurs besoins dans quatre domaines principaux : transition énergétique, transition numérique, technologies pour la médecine du futur, défense et sécurité sur un socle de recherche fondamentale. Le CEA s'engage depuis plus de 75 ans au service de la souveraineté scientifique, technologique et industrielle de la France et de l'Europe pour un présent et un avenir mieux maîtrisés et plus sûrs.

Implanté au cœur des territoires équipés de très grandes infrastructures de recherche, le CEA dispose d'un large éventail de partenaires académiques et industriels en France, en Europe et à l'international.

Les 20 000 collaboratrices et collaborateurs du CEA partagent trois valeurs fondamentales :

• La conscience des responsabilités
• La coopération
• La curiosité
  

Référence

2024-33162  

Description de l'unité

Laboratoire de dépôts de matériaux avancés

En nous rejoignant, vous contribuerez au développement de matériaux couches minces utilisés dans l'industrie française et européenne de demain.

Description du poste

Domaine

Sciences pour l'ingénieur

Contrat

Stage

Intitulé de l'offre

Fabrication à l'échelle atomique : Dépôt sélectif localisé (ASD) de TiN H/F

Sujet de stage

La fabrication de futurs dispositifs nanoélectroniques nécessite des techniques innovantes de patterning pour passer à des architectures 3D. En parallèle de l'approche conventionnelle de lithographie/gravure, le dépôt sélectif localisé ou Area Selective Deposition (ASD) par dépôt de couches atomiques (ALD) pourrait permettre de simplifier ces intégrations, comme par ex. dans le cas de mémoires 3D avec une électrode réalisée par ASD.

Durée du contrat (en mois)

6 mois

Description de l'offre

Rejoignez-nous en Stage ! 

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En tant que stagiaire au CEA, vous aurez l'opportunité de travailler au sein d'un environnement de recherche de renommée mondiale. Nos équipes sont composées d'experts passionnés et dédiés, offrant un cadre propice à l'apprentissage et à la collaboration. Vous aurez accès à des équipements de pointe et à des ressources de recherche de premier ordre pour mener à bien vos missions.

 

Description du poste :

L’objectif de ces travaux est d’étudier l’ASD de TiN déposé par ALD. Une approche consiste à fonctionnaliser la surface avec un inhibiteur de croissance. Les recherches récentes se tournent vers le développement d’inhibiteurs déposés par des techniques sous vide [1,2]. L’un des aspects novateurs de ce sujet est l’utilisation de couches inhibitrices à base de carbone amorphe [3] déposées par PECVD (Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition) pour le dépôt localisé de couches métalliques. 

Ce stage de 6 mois se déroulera au CEA-LETI, dans le service de dépôt de matériaux avancés. L’étudiant aura accès aux plateformes de réalisation en salle blanche pour les dépôts de couches minces (a-CH PECVD, TiN ALD) et à la plateforme de nanocaractérisation. Des analyses de surface et caractérisations des couches minces (ellipsométrie, FTIR, angle de contact, AFM, XPS, Tof-SIMS) permettront d’identifier la meilleure sélectivité.

 

Pour aller plus loin:

[1] https://doi.org/10.1021/acs.chemmater.8b00017
[2] https://doi.org/10.1116/6.0002248
[3] https://doi.org/10.1021/acs.chemmater.0c00722

 

Mots clés :

Stage M2 6 mois ; Nanotechnologies ; Matériau couche mince; ALD, PECVD ; Sélectivité, ASD ; Nanocaractérisation

Moyens / Méthodes / Logiciels

Plateformes technologiques de réalisation et de nanocaractérisation

Profil du candidat

Qu’attendons-nous de vous ?

Vous préparez un diplôme de niveau Master2 ou école d'ingénieur en Matériaux / Microélectronique / Physique – Chimie

 

Vous êtes force de proposition et faites preuve d'esprit de synthèse, d'autonomie, de rigueur ainsi que d'esprit d'équipe.

 

Rejoignez-nous, venez développer vos compétences et en acquérir de nouvelles !

 

Localisation du poste

Site

Grenoble

Localisation du poste

France

Ville

Grenoble

Critères candidat

Langues

Anglais (Courant)

Diplôme préparé

Bac+5 - Master 2

Formation recommandée

Ecole d'ingénieur ou Master 2

Possibilité de poursuite en thèse

Non

Demandeur

Disponibilité du poste

03/02/2025