Développement de solutions logicielles pour les procédés de photolithographie H/F

Détail de l'offre

Informations générales

Entité de rattachement

Le CEA est un acteur majeur de la recherche, au service des citoyens, de l'économie et de l'Etat.

Il apporte des solutions concrètes à leurs besoins dans quatre domaines principaux : transition énergétique, transition numérique, technologies pour la médecine du futur, défense et sécurité sur un socle de recherche fondamentale. Le CEA s'engage depuis plus de 75 ans au service de la souveraineté scientifique, technologique et industrielle de la France et de l'Europe pour un présent et un avenir mieux maîtrisés et plus sûrs.

Implanté au cœur des territoires équipés de très grandes infrastructures de recherche, le CEA dispose d'un large éventail de partenaires académiques et industriels en France, en Europe et à l'international.

Les 20 000 collaboratrices et collaborateurs du CEA partagent trois valeurs fondamentales :

• La conscience des responsabilités
• La coopération
• La curiosité
  

Référence

2025-35707  

Description du poste

Domaine

Technologies micro et nano

Contrat

Alternance

Durée du contrat (en mois)

12

Description de l'offre

Cadre et contexte :

Le CEA-LETI est engagé dans le développement et l'intégration des nouvelles technologies pour l'industrie des semi-conducteurs. La lithographie est une étape fondamentale pour la réalisation des composants, et les développements R&D associés à cette étape doivent être traités avec rigueur pour en extraire un maximum d'informations. De nombreux scripts de traitements de données sont actuellement développés au sein du Laboratoire de PAtterning Computationnel (LPAC) pour répondre aux besoins d'ingénierie en lithographie. Actuellement sous forme de code Python, ces traitements pourraient être transformés en outils (packagés) et utilisés par beaucoup plus de monde dans un cadre opérationnel (Labo Lithographie Jour et équipes opérationnelles au sein du Leti).

Une base commune d’outils de traitement permettrait, outre le fait d’aller plus vite et de ne pas tout redévelopper, de mieux interagir entre nous et de mieux capitaliser

Travail demandé :

Déployer les scripts LPAC aux acteurs opérationnels et engineering du service Patterning, soit à travers d’une interface spécifique ou par le biais de notebooks Jupyter. Co-construire et étendre le déploiement à des applications ciblées notamment un outil de traitement des fenêtres de procédés de lithographie.

Profil du candidat

Alternance Master 2/Ecole d'ingénieur dans l'un des domaines suivants : nano/microtechnologie, physique, informatique industrielle, développement informatique.
Appétence pour le développement informatique avec au minimum quelques bases en Python

Rejoignez-nous, venez développer vos compétences et en acquérir de nouvelles !

 

Vous avez encore un doute ? Nous vous proposons :

Un environnement unique de recherché dédié à des projets ambitieux au profit des grands enjeux sociétaux actuels.
Une expérience à la pointe de l’innovation, comportant un fort potentiel de développement industriel,
Des moyens expérimentaux exceptionnels et un encadrement de qualité,
De réelles opportunités de carrière à l’issue de votre alternance
Un poste au cœur de la métropole grenobloise, facilement accessible via la mobilité douce favorisée par le CEA,
Un équilibre vie privé – vie professionnelle reconnu,
Une épargne entreprise abondée par le CEA,
Une politique diversité et inclusion,
Un CSE actif en termes de loisirs et d’activités extra-professionnelles.
 

Tous nos postes sont ouverts aux personnes en situation de Handicap. La Mission Handicap du CEA vous accompagne et met en place les aménagements nécessaires à vos besoins spécifiques

Localisation du poste

Site

Grenoble

Localisation du poste

France, Auvergne-Rhône-Alpes, Isère (38)

Ville

Grenoble

Critères candidat

Diplôme préparé

Bac+5 - Master 2

Demandeur

Disponibilité du poste

01/09/2025