Croissance de GaN pour l'électronique de puissance H/F

Détail de l'offre

Informations générales

Entité de rattachement

Le CEA est un acteur majeur de la recherche, au service des citoyens, de l'économie et de l'Etat.

Il apporte des solutions concrètes à leurs besoins dans quatre domaines principaux : transition énergétique, transition numérique, technologies pour la médecine du futur, défense et sécurité sur un socle de recherche fondamentale. Le CEA s'engage depuis plus de 75 ans au service de la souveraineté scientifique, technologique et industrielle de la France et de l'Europe pour un présent et un avenir mieux maîtrisés et plus sûrs.

Implanté au cœur des territoires équipés de très grandes infrastructures de recherche, le CEA dispose d'un large éventail de partenaires académiques et industriels en France, en Europe et à l'international.

Les 20 000 collaboratrices et collaborateurs du CEA partagent trois valeurs fondamentales :

• La conscience des responsabilités
• La coopération
• La curiosité
  

Référence

2024-33300  

Description du poste

Domaine

Technologies micro et nano

Contrat

Stage

Intitulé de l'offre

Croissance de GaN pour l'électronique de puissance H/F

Sujet de stage

Epitaxie GaN sur silicium pour nouvelle génération de transistors de puissance : critique pour les voitures électriques et les énergies renouvelables

Durée du contrat (en mois)

6 mois

Description de l'offre

Contexte : Pour la transition énergétique, il est essentiel de réduire les coûts et d’améliorer les performances des convertisseurs électriques, nécessitant des diodes et des transistors. Le nitrure de gallium est un matériau à large bande interdite permettant une commutation plus efficace, et cette étude optimisera davantage ce matériau, avec une croissance sur des couches de nucléation innovantes.

L’objectif principal du stage est la croissance de nitrure de gallium (GaN) ou de nitrure d’aluminium et de gallium (AlGaN) sur des couches de nucléation déjà préparées. Différentes variantes de couches de nucléation seront utilisées, et diverses conditions d’épitaxie seront testées sur ces couches de nucléation.

Ces couches seront ensuite caractérisées avec une variété de techniques afin d’évaluer la qualité de la croissance. Cela comprendra la diffraction des rayons X pour évaluer la qualité cristalline et la densité de dislocations, la microscopie à force atomique pour évaluer la qualité de surface et la microscopie électronique à balayage pour examiner la surface à plus grande échelle. Des techniques supplémentaires telles que la cathodoluminescence et la photoluminescence peuvent être utilisées pour évaluer d’autres propriétés.

Profil du candidat

Niveau bac+5 : école d'ingénieur/master 2

Localisation du poste

Site

Grenoble

Localisation du poste

France, Auvergne-Rhône-Alpes, Isère (38)

Ville

Grenoble

Critères candidat

Possibilité de poursuite en thèse

Oui

Demandeur

Disponibilité du poste

01/02/2025